電子部品部 webサイト
サイトマップ お問い合わせ
事業部トップ LIGAプロセス詳細 製品例 技術論文

リソグラフィー技術

Home > LIGAプロセス詳細 > リソグラフィー技術

X線リソグラフィー技術

 当社は10年以上にわたるX線リソグラフィー技術開発の実績を有しており、独自のX線リソグラフィー装置(ステッパー)やX線マスク、高感度レジストを用いることで高スループットX線リソグラフィーを実現しました。

X線リソグラフィー(DXL:Deep X-ray Lithography)の構成
X線リソグラフィーの構成
 
X線リソグラフィー装置

 独自に開発したX線リソグラフィー装置は、大面積リソグラフィーが可能でかつ自動で多数の基板を処理することができます。この結果、高感度レジストと組合わせることで 高スループットのX線リソグラフィーを実現しています。

リソグラフィー装置

リソグラフィー装置

放射光

放射光

高精度高コントラストX線マスク(LIGA用X線マスク)

 当社はLIGA用X線マスクを製作できる世界でも数少ないメーカーです。
 自社内で製作しているため、短納期かつ低価格で高性能X線マスクをご提供することができます。

X線マスク

X線マスク

X線マスクの基本構成

X線マスクの基本構成

 
X線コントラス 1:200以上
高感度高分解能レジスト

 独自の高分子重合技術により、PMMAの高精度、高分解能、高アスペクト比パターンニング性を犠牲にすることなくレジストの大幅な高感度化を実現し、X線リソグラフィーの高スループット化を実現しています。

レジスト構造体

 

高感度レジスト特性(例)

レジスト構造体

垂直性:0.16μm/100μm

高感度レジスト特性(例)
ページトップへ
(C) 2007 Sumitomo Electric Industries, Ltd.
サイトのご利用にあたって 個人情報保護方針