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広報誌 SEI WORLD 2008年

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SEI WORLD 2008年 04月号(vol. 367)

第54回大河内記念技術賞を受賞

 このたび、当社の「青紫色レーザ用窒化ガリウム基板の開発」に関する業績が認められ、第54回(平成19年度)大河内記念技術賞を受賞しました。

 大河内賞は、大正時代から四半世紀にわたり(財)理化学研究所を大きく発展させた大河内正敏博士の学会、産業界に残された業績を記念して、(財)大河内記念会がわが国の生産工学、生産技術の研究開発、および高度生産方式の実施等に関する顕著な功績に対し表彰するものです。

 今回受賞した「青紫色レーザ用窒化ガリウム基板の開発」の受賞ポイントは、 独創的なプロセスと技術開発によって、青紫色レーザ製造のために必要と言われながら実現されていなかった、大口径で低欠陥密度の窒化ガリウム基板の開発に世界で初めて成功し、その工業化を実現したことにあります。当社は、これからも本技術をベースに、お客様の様々な要求に応えていきます。

半導体技術研究所、半導体事業部

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