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このたび、「窒化ガリウム半導体基板とその製造方法」の発明に関する業績が認められ、全国発明表彰の「21世紀発明奨励賞」・「21世紀発明貢献賞」を受賞しました。
全国発明表彰は、（社）発明協会が、科学技術の向上・産業の発展に寄与することを目的として、日本における発明・考案・意匠の創作者をはじめ、発明の実施、奨励、創意の高揚に関して功績のあった人々を表彰するものです。
今回受賞した「窒化ガリウム半導体基板とその製造方法」の受賞ポイントは、大容量光ディスクの基幹部品である青紫色レーザの実現に必須であると言われながら、未開発であった高品質の窒化ガリウム基板を、独自の製法と技術思想によって世界で初めて実現し、さらにその工業生産をも達成し、広く産業界に貢献したことにあります。
当社は、これからも本技術をベースに、お客様のさまざまな要求に応えていきます。
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